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EDI超纯水系统

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超纯水系统,EDI超纯水系统, 混床超纯水系统

 

超纯水系统,EDI超纯水系统, 混床超纯水系统首选益民水处理,我公司超纯水系统,EDI超纯水系统, 混床超纯水系统出水水质完全符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准(18.2MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准)、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。

 

超纯水系统超纯水制备技术发展史:

 

超纯水系统第一代:预处理 -阳床-阴床-混床

 

超纯水系统第二代:预处理 -反渗透-混床

 

超纯水系统第三代:预处理 -反渗透-电去离子(EDI)

 

阳床-阴床-混床离子交换设备:

离子交换设备是利用阴、阳离子交换树脂的交换吸附性能,去除水中的各种阴、阳离子,达到去离子的目的,离子交换设备按单台设备分类,可分为阴床、阳床、混床。在水处理应用中,由阳床、阴床单组或阵列装置而成,后置混合离子交换器,能得到更高纯度的産出水,具有投资节省、工业成熟等特点。离子交换设备是制备高纯水的必要设备,广泛应用于电子、电镀、锅炉用水等领域,与RO、EDI设备组合后水质的电阻率可达到18.2MΩ.CM.

 

反渗透+EDI超纯水设备:

反渗透装置去除水中的溶解性盐类物质、细菌、热源等,然后使用连续电除盐装置进行深度脱盐,使産水电阻率达到15MΩ.cm以上,再采用电子级纯水树脂精混床精除盐,使産水电阻率达到18.2MΩ.cm,后处理采用紫外线杀菌器和精密过滤器隔绝细菌的二次污染,産水可达到国家电子级水的技术指标GB 11446.1-1997。

 

新兴的光电材料生产、加工、清洗;LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏、高品质灯管显像管、微电子工业、FPC/PCB线路板、电路板、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高,对水质的要求也越高,这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。

 

超纯水系统,EDI超纯水系统, 混床超纯水系统应用场合:

 

☆电解电容器生产铝箔及工作件的清洗

☆电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液

☆显像管和阴极射线管生产、配料用纯水

☆ 黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水

☆液晶显示器的生产、屏面需用纯水清洗和用纯水配液

☆晶体管生产中主要用于清洗硅片,另有少量用于药液配制

☆ 集成电路生产中高纯水清洗硅片

☆半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路

☆LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏

☆高品质显像管、萤光粉生产

☆半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗

☆超纯材料和超纯化学试剂、超纯化工材料

☆实验室和中试车间  

☆汽车、家电表面抛光处理

☆光电产品、其他高科技精微产品

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